平板顯示鍍膜解決方案

減反射鍍膜（AR鍍膜/AR玻璃）

減反射鍍膜，亦稱增透膜或AR玻璃，是一種通過特殊表面處理提升透光率的鍍膜玻璃。該技術(shù)在光學元件表面沉積功能薄膜，旨在降低表面反射，增強光學系統(tǒng)的透射效率。

選用適宜的薄膜沉積工藝對提升鍍膜質(zhì)量與產(chǎn)能至關(guān)重要。

HCVAC基于薄膜工藝技術(shù)視角，研發(fā)并生產(chǎn)專用于光學領(lǐng)域的真空鍍膜系統(tǒng)。憑借在鍍膜工藝開發(fā)中積累的深厚經(jīng)驗，我們確保所有部件滿足工藝技術(shù)要求，從而提供多樣化的先進鍍膜系統(tǒng)解決方案。

蓋板玻璃（G2.5~G8.5）
- 抗反射鍍膜：減少環(huán)境光反射，提升屏幕在強光下的可視性。
- 抗指紋鍍膜：沉積疏油疏水層，減少指紋和油污附著，易于清潔。
- 裝飾鍍膜：在玻璃邊緣或特定區(qū)域鍍制黑色或其他顏色的邊框。
- 電磁屏蔽鍍膜：透明導電膜，用于高端設(shè)備防止信號泄露或干擾。
底層玻璃基板
- 透明導電電極：在TFT-LCD或OLED陣列中，作為像素電極。
- 觸控傳感器：在玻璃上直接制作ITO觸控電路。
- 薄膜封裝：用于OLED顯示器的薄膜封裝，保護有機發(fā)光材料免受水氧侵蝕。

顯示屏玻璃鍍膜幾乎全部采用磁控濺射技術(shù)，因為它能提供無與倫比的大面積均勻性、膜層純度和精確的膜厚控制。

應用領(lǐng)域	主要膜層材料	PVD工藝	技術(shù)目標與挑戰(zhàn)
抗反射鍍膜	高折射率層：?Nb?O?, TiO?, ZrO? 低折射率層：?SiO?	反應磁控濺射	目標：?將反射率降至0.5%以下，提升透過率至97%以上。挑戰(zhàn)：?納米級膜厚控制、大面積均勻性、膜層致密性、顏色中性。
抗指紋鍍膜	氟碳聚合物	等離子體增強化學氣相沉積	目標：?獲得低表面能（~10-15 mN/m），水接觸角>110°。挑戰(zhàn)：?與底層附著力、耐磨性、透光性。
裝飾邊框	鉻、氧化鉻、合金	直流/反應磁控濺射	目標：?顏色一致、高附著力、邊緣銳利。挑戰(zhàn)：?遮蔽工裝設(shè)計、無粉塵污染。
透明導電膜	ITO	反應磁控濺射	目標：?低方阻（可至10-100 Ω/□）、高透過率（>85%）。挑戰(zhàn)：?導電性與透過率的平衡、低溫工藝（柔性基板）、刻蝕性能。
電磁屏蔽	金屬網(wǎng)格、ITO	直流/反應磁控濺射	目標：?高屏蔽效能、高透明度。挑戰(zhàn)：?莫爾紋控制、微細圖形化。
薄膜封裝	Al?O?, SiO?, SiNx	反應磁控濺射?或?原子層沉積	目標：?形成致密無缺陷的水氧阻擋層，水汽透過率<10?? g/m2/day。挑戰(zhàn)：?薄膜本征應力控制、缺陷密度、多層結(jié)構(gòu)集成。

ALD (3)